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高能效應用

High-Efficiency Applications

晶片模組微流體散熱

突破 4000W 晶片級散熱,邁向 8000W 伺服器散熱解決方案

晶片模組微流體散熱技術是驅動下世代 AI 伺服器突破效能瓶頸的關鍵散熱方案。隨著生成式 AI 與大型語言模型快速發展,高效能運算晶片功耗與熱密度持續攀升,單晶片模組功耗預期突破 4000W,傳統風冷及間接式水冷已接近散熱極限。 本技術核心為直接晶片微流道散熱,採用先進半導體製程,在矽晶圓背面或晶片封裝內蝕刻微米級流道,將冷卻液直接導入晶片內部,實現對熱源精準冷卻。相較於傳統外加散熱片的間接散熱方式,可大幅降低異質介面熱阻,顯著提升熱傳效率與熱對流能力。 透過超短熱傳路徑,系統可快速移除晶片局部熱點,維持高負載運作下的溫度均勻性,成功突破4000W散熱極限,為高密度、高算力的下世代 AI 伺服器提供穩定、高效率且可靠的散熱解決方案。

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姓名:吳子涵 Hady Wu

電話:03-5916034

信箱:handwu@itri.org.tw

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